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附著力測(cè)試的三種方法
日期:2024-12-25 22:20
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摘要:附著力測(cè)試的三種方法和對(duì)應(yīng)的樣品要求
附著力測(cè)試適用于測(cè)定膜與基體的附著能力,本篇文章將給大家介紹在附著力測(cè)試中的三種方法以及對(duì)應(yīng)的樣品要求。
附著力測(cè)試
附著力測(cè)試的三種主要方法:
1. 百格法是通常在塑料或者是金屬等材質(zhì)表面涂裝工藝完成之后為了檢驗(yàn)涂層與基材結(jié)合的程度是否達(dá)到需求。
測(cè)試方法是用刀在表面劃百格,用膠帶貼在形成的格子中心,然后平穩(wěn)的扯離,觀察漆膜脫落的現(xiàn)象,并通過計(jì)算劃格中格子中的狀態(tài)對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行判定。
2.拉開法是在指定的速度下,在試樣的膠結(jié)面上施加垂...
附著力測(cè)試的三種方法和對(duì)應(yīng)的樣品要求
附著力測(cè)試適用于測(cè)定膜與基體的附著能力,本篇文章將給大家介紹在附著力測(cè)試中的三種方法以及對(duì)應(yīng)的樣品要求。
附著力測(cè)試
附著力測(cè)試的三種主要方法:
1. 百格法是通常在塑料或者是金屬等材質(zhì)表面涂裝工藝完成之后為了檢驗(yàn)涂層與基材結(jié)合的程度是否達(dá)到需求。
測(cè)試方法是用刀在表面劃百格,用膠帶貼在形成的格子中心,然后平穩(wěn)的扯離,觀察漆膜脫落的現(xiàn)象,并通過計(jì)算劃格中格子中的狀態(tài)對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行判定。
2.拉開法是在指定的速度下,在試樣的膠結(jié)面上施加垂直 、均勻的拉力,來測(cè)定涂層之間或涂層與底材之間附著力破壞時(shí)所需要的力,以 N/cm2 表示 。
儀器及試驗(yàn)材料包括拉力試驗(yàn)機(jī) 、夾具 、試柱 、定中心裝置 、膠黏劑
拉開法適用于較厚涂層(如膩?zhàn)樱?,單涂層和多涂層體系均適用,但測(cè)定涂層之間的附著力時(shí),可優(yōu)先選用該方法。
3.劃痕法是目前廣泛使用的一種半定量的測(cè)量硬質(zhì)薄膜涂層/基體材料界面結(jié)合性能的方法。
其原理是將一具有很小曲率半徑、圓錐形端頭的硬質(zhì)材料(通常是金剛石制成),立在涂層表面,不斷施加一定的法向力和切向力,并同時(shí)使劃針沿涂層表面進(jìn)行刻劃,通過劃傷涂層來測(cè)量涂層對(duì)基體的附著力。
附著力測(cè)試的樣品要求:
百格法/劃格法:大于10cm*10cm的樣品至少2個(gè);
拉脫法:樣品大于5cm*5cm;
劃痕法:請(qǐng)下單納米劃痕儀;圓柱體或者方塊體,高度5-10mm,高度不夠需要自己準(zhǔn)備墊塊,寬度5-25mm,軟膜(高分子之內(nèi))膜厚度50um以下,硬膜(金屬或者硬直合金等)膜厚度20um以下;
附著力測(cè)試適用于測(cè)定膜與基體的附著能力,本篇文章將給大家介紹在附著力測(cè)試中的三種方法以及對(duì)應(yīng)的樣品要求。
附著力測(cè)試
附著力測(cè)試的三種主要方法:
1. 百格法是通常在塑料或者是金屬等材質(zhì)表面涂裝工藝完成之后為了檢驗(yàn)涂層與基材結(jié)合的程度是否達(dá)到需求。
測(cè)試方法是用刀在表面劃百格,用膠帶貼在形成的格子中心,然后平穩(wěn)的扯離,觀察漆膜脫落的現(xiàn)象,并通過計(jì)算劃格中格子中的狀態(tài)對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行判定。
2.拉開法是在指定的速度下,在試樣的膠結(jié)面上施加垂直 、均勻的拉力,來測(cè)定涂層之間或涂層與底材之間附著力破壞時(shí)所需要的力,以 N/cm2 表示 。
儀器及試驗(yàn)材料包括拉力試驗(yàn)機(jī) 、夾具 、試柱 、定中心裝置 、膠黏劑
拉開法適用于較厚涂層(如膩?zhàn)樱?,單涂層和多涂層體系均適用,但測(cè)定涂層之間的附著力時(shí),可優(yōu)先選用該方法。
3.劃痕法是目前廣泛使用的一種半定量的測(cè)量硬質(zhì)薄膜涂層/基體材料界面結(jié)合性能的方法。
其原理是將一具有很小曲率半徑、圓錐形端頭的硬質(zhì)材料(通常是金剛石制成),立在涂層表面,不斷施加一定的法向力和切向力,并同時(shí)使劃針沿涂層表面進(jìn)行刻劃,通過劃傷涂層來測(cè)量涂層對(duì)基體的附著力。
附著力測(cè)試的樣品要求:
百格法/劃格法:大于10cm*10cm的樣品至少2個(gè);
拉脫法:樣品大于5cm*5cm;
劃痕法:請(qǐng)下單納米劃痕儀;圓柱體或者方塊體,高度5-10mm,高度不夠需要自己準(zhǔn)備墊塊,寬度5-25mm,軟膜(高分子之內(nèi))膜厚度50um以下,硬膜(金屬或者硬直合金等)膜厚度20um以下;